高温真空烘箱特点:
高温真空烘箱在半导体生产工艺中,重庆真空烘箱,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,甘肃真空烘箱,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。
低温真空烘箱广泛用于医药、食品、轻工、化工等行业作低温干燥之用,徐州真空烘箱,具有干燥物品速度快、污染小、不对被干燥物品的内在质量造成破坏的优点低温真空干燥箱专为干燥热敏性,易分解和易氧化物质而设计的,能够向内部冲入惰性气体,特别是一些成分复杂的物品也能进行快速干燥干燥在许多生产中是一个十分重要的单元操作,因为干燥在这里不仅是简单的固液分离过程,更重要的常常是生产过程的最后一道工序,产品的质量、剂型在很大程度上取决于干燥技术和设备的综合运用情况从经济角度考虑,真空烘箱,干燥器价格昂贵,工程投资较大另一方面,干燥又是高耗能过程,热效率在15%一80%这样大的范围内波动,而设备的运转费用与干燥器的设计选型有非常密切的关系,所以企业的决策者对此历来都比较重视被干燥物料的品种有许多,它们的理化性质又有很大差异甚至同一品种不同的生产工艺、同一品种不同的产品要求,导致干燥条件可能都有区别,所以就决定了干燥工程的复杂性由此可见,干燥过程较其他的单元操作具有更高的技术性。