上海真空烘箱,博霖实业 在线咨询 ,真空烘箱

　　高温真空烘箱特点：

　　高温真空烘箱在半导体生产工艺中，光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节，涂胶质量直接影响到光刻的质量，涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的，厦门真空烘箱，而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的，沈阳真空烘箱，这造成光刻胶和硅片的黏合性较差，尤其是正胶，显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处，真空烘箱，容易造成漂条、浮胶等，导致光刻图形转移的失败，同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。

控温的系统特点

　　1：烘箱采用的是国家重点节能保护加热技术，通上电源使用电热管加热，广东真空烘箱，产生热量，从而快速干燥效果，达到一个生产周期，节约能源，提高产品质量等 等 一个目的。

　　2：烘箱是利用电热丝隔层加热才能使物体达到一个快速干燥的效果，它比较适用于温高5~300℃《有的高150℃》范围的烘培、干燥、热处理等。