本系列真空烘箱产品适用于LED光电元件、锂电池、晶振等电子产品生产工艺的真空干燥处理。该系列产品经吸收引进国外先进技术,不断更新完善,无锡高温烘箱型号,深受用户欢迎。
技术参数:
温度范围 室温~200
温度波动 ±1.0
加热功率 1.5KW 3.0KW 6.0KW
工作电压 220/380V 380V
真空度 100Pa
漏气量 ≤0.5
工作室尺寸 350*350*320 450*450*450 600*620*650
高温真空烘箱特点:
高温真空烘箱在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,湖南高温烘箱,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,高温烘箱,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。